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 在光學及光電子設備中，α氧化鋁單晶片因為其高硬度、高熔點、良好的透光性及熱傳導性、優良的電絕緣性及穩定的化學性能，在光電子係統中得到了廣泛的應用。
當您需要研磨α氧化鋁單晶片時，可以采用機械拋光法、浮法拋光法、超精密拋光法以及機械化學拋光法等，這裏采用的是錫盤拋光法。
為了充分了解拋光時間與拋光精度的對應關係，夜色在线视频的實驗小組特別就此做了一個實驗，在溫度、壓力、濃度、主軸轉速及工件軸轉速等都相同的情況下，僅改變拋光的時間來測量工件的粗糙度，從而獲得拋光時間與表麵性能的變化規律。經過前後多次的反複對比，夜色在线视频終於發現，拋光的時間越長，工件的粗糙度越小，其表麵的性能也就越好。
由此，從這次實驗結論中可以看出，在拋光α氧化鋁單晶片時，您的拋光盤若是錫盤，可以通過加長拋光時間來獲得更加良好的表麵性能，不信的話，試試就知道了。
為了幫助廣大客戶更好地使用和維護研磨拋光設備，也為了獲得更好的機器性能，夜色在线视频將堅持不懈，不斷做進一步的研究與探討。您若有什麽需要或疑問，歡迎您與夜色在线视频取得聯係。