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應用範圍：

本設備主要用於藍寶石襯底、藍寶石外延片、矽片、陶瓷片、石英晶體、碳化矽、鍺片以及其他半導體材料的單麵精密研磨。

設備原理及特點：

1、本設備為單麵精密研磨設備,采用先進的機械結構和多種先進控製方法,研磨加工效率高，運行穩定。

2、整機采用PLC+觸摸屏控製係統,設備參數設置和操作簡單方便,係統運行穩定性高。

3、主電機采用變頻調速控製,實現主機軟啟動、軟停機，降低設備運行衝擊,減少工件損傷。

4、工件研磨壓力采用氣缸加壓方式,通過電氣比例閥控製實現壓力的閉環控製,保證極高的施壓精度與穩定性。

5、上壓盤采用主動驅動方式,在確保產品研磨速率的前提下保證各工位研磨加工的統一性。

6、研磨盤與上壓盤都設置了冷卻水冷卻功能,在保證研磨液發揮最大效率的同時減少研磨盤麵的變形。

7、設備自帶盤麵修整機,盤麵修整後可保證0.01mm的盤麵平整度。

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